印制板及其組件(PCB&PCBA)是電子產(chǎn)品的核心部件,PCB&PCBA的可靠性直接決定了電子產(chǎn)品的可靠性。為了保證和提高電子產(chǎn)品的質(zhì)量和可靠性,對(duì)失效進(jìn)行全面的理化分析,確認(rèn)失效的內(nèi)在機(jī)理,從而有針對(duì)性地提出改善措施。
電子元器件失效分析的目的是借助各種測(cè)試分析技術(shù)和分析程序確認(rèn)電子元器件的失效現(xiàn)象,分辨其失效模式和失效機(jī)理,確認(rèn)最終的失效原因,提出改進(jìn)設(shè)計(jì)和制造工藝的建議,防止失效的重復(fù)出現(xiàn),提高元器件可靠性。
集成電路復(fù)雜度與性能要求的持續(xù)攀升,疊加設(shè)計(jì)、制造、封裝及應(yīng)用環(huán)節(jié)的潛在風(fēng)險(xiǎn),導(dǎo)致短路、開(kāi)路、漏電、燒毀、參數(shù)漂移等關(guān)鍵失效模式頻發(fā)。這不僅造成昂貴的器件報(bào)廢與系統(tǒng)宕機(jī),更常引發(fā)設(shè)計(jì)方、代工廠(chǎng)、封測(cè)廠(chǎng)與終端用戶(hù)間的責(zé)任爭(zhēng)議,帶來(lái)重大經(jīng)濟(jì)損失與信譽(yù)風(fēng)險(xiǎn)。
高分子材料性能要求持續(xù)提升,而客戶(hù)對(duì)高要求產(chǎn)品及工藝的理解差異,導(dǎo)致斷裂、開(kāi)裂、腐蝕、變色等典型失效頻發(fā),常引發(fā)供應(yīng)商與用戶(hù)間的責(zé)任糾紛及重大經(jīng)濟(jì)損失。
金屬構(gòu)件服役環(huán)境日益苛刻,對(duì)材料性能和結(jié)構(gòu)可靠性提出更高要求。然而,設(shè)計(jì)缺陷、材料瑕疵、制造偏差或不當(dāng)使用等因素,極易引發(fā)疲勞斷裂、應(yīng)力腐蝕開(kāi)裂、氫脆、蠕變、磨損、過(guò)載變形等典型失效。
美信檢測(cè)以海量失效數(shù)據(jù)庫(kù)構(gòu)建技術(shù)優(yōu)勢(shì),全譜系案例、復(fù)雜場(chǎng)景方案、頭部企業(yè)合作及體系化知識(shí)產(chǎn)權(quán),各展其能。憑借百萬(wàn)級(jí)失效解析積累,精準(zhǔn)洞察本質(zhì),讓檢測(cè)報(bào)告為客戶(hù)質(zhì)量升級(jí)提供有力支撐,實(shí)現(xiàn)失效歸零。
實(shí)時(shí)更新美信檢測(cè)最新資訊,包括技術(shù)、展會(huì)、活動(dòng)等動(dòng)態(tài)。我們以專(zhuān)業(yè)檢測(cè)為基石,為客戶(hù)定制解決方案,從源頭把控質(zhì)量,助力客戶(hù)在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中脫穎而出,實(shí)現(xiàn)商業(yè)成功。
美信檢測(cè)一家具有國(guó)家認(rèn)可資質(zhì)的商業(yè)第三方實(shí)驗(yàn)室 我們專(zhuān)注于為客戶(hù)提供檢測(cè)服務(wù)、技術(shù)咨詢(xún)服務(wù)和解決方案服務(wù),服務(wù)行業(yè)涉及電子制造、汽車(chē)電子、半導(dǎo)體、航空航天材料等領(lǐng)域。
美信檢測(cè)在深圳、蘇州和北京均建有實(shí)驗(yàn)基地,設(shè)立了多學(xué)科檢測(cè)和分析實(shí)驗(yàn)室。公司基于材料科學(xué)工程和電子可靠性工程打造工業(yè)醫(yī)院服務(wù)模式。
專(zhuān)業(yè)檢測(cè)網(wǎng)站,數(shù)據(jù)精準(zhǔn)洞察,為投資者筑牢信任基石

動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜(D-SIMS)

D-SIMS可以提供表面,薄膜,界面以至于三維樣品的元素結(jié)構(gòu)信息,其特點(diǎn)在二次離子來(lái)自表面單個(gè)原子層(1nm以?xún)?nèi)),僅帶出表面的化學(xué)信息,具有分析區(qū)域小、分析深度淺和檢出限高的特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于物理,化學(xué),微電子,生物,制藥,空間分析等工業(yè)和研究方面。

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動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜(D-SIMS)
動(dòng)態(tài)二次離子質(zhì)譜(D-SIMS)

| 項(xiàng)目概述

 

二次離子質(zhì)譜技術(shù)(Dynamic Secondary Ion Mass Spectrometry,D-SIMS)是一種非常靈敏的表面分析技術(shù),通過(guò)用一次離子激發(fā)樣品表面,打出極其微量的二次離子,根據(jù)二次離子的質(zhì)量來(lái)測(cè)定元素種類(lèi),具有極高分辨率和檢出限的表面分析技術(shù)。D-SIMS可以提供表面,薄膜,界面以至于三維樣品的元素結(jié)構(gòu)信息,其特點(diǎn)在二次離子來(lái)自表面單個(gè)原子層(1nm以?xún)?nèi)),僅帶出表面的化學(xué)信息,具有分析區(qū)域小、分析深度淺和檢出限高的特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于物理,化學(xué),微電子,生物,制藥,空間分析等工業(yè)和研究方面。

 

 

| 測(cè)試目的

 

1)當(dāng)產(chǎn)品表面存在微小的異物,而常規(guī)的成分測(cè)試方法無(wú)法準(zhǔn)確對(duì)異物進(jìn)行定性定量分析,可選擇D-SIMS進(jìn)行分析,D-SIMS能分析≥10μm直徑的異物成分。

2)當(dāng)產(chǎn)品表面膜層太薄,無(wú)法使用常規(guī)測(cè)試進(jìn)行膜厚測(cè)量,可選擇D-SIMS進(jìn)行分析,利用D-SIMS測(cè)量≥1nm的超薄膜厚。

3)當(dāng)產(chǎn)品表面有多層薄膜,需測(cè)量各層膜厚及成分,利用D-SIMS能準(zhǔn)確測(cè)定各層薄膜厚度及組成成分。

4)當(dāng)膜層與基材截面出現(xiàn)分層等問(wèn)題,但是未能觀察到明顯的異物痕跡,可使用D-SIMS分析表面超痕量物質(zhì)成分,以確定截面是否存在外來(lái)污染,檢出限高達(dá)ppb級(jí)別。

5)摻雜工藝中,摻雜元素的含量一般是在ppm-ppb之間,且深度可達(dá)幾十微米,使用常規(guī)手段無(wú)法準(zhǔn)確測(cè)試摻雜元素從表面到心部的濃度分布,利用D-SIMS可以完成這方面參數(shù)測(cè)試。

 

 

| 美信優(yōu)勢(shì)

 

1、專(zhuān)業(yè)團(tuán)隊(duì):擁有多名經(jīng)驗(yàn)豐富的檢測(cè)工程師和技術(shù)專(zhuān)家。

2、先進(jìn)設(shè)備:配備國(guó)際領(lǐng)先的檢測(cè)設(shè)備,確保檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性和可靠性。

3、高效服務(wù):快速響應(yīng)客戶(hù)需求,提供一站式高效檢測(cè)服務(wù)。

4、權(quán)威認(rèn)證:實(shí)驗(yàn)室通過(guò)ISO/IEC 17025認(rèn)證,檢測(cè)報(bào)告具有國(guó)際公信力。

 

常見(jiàn)問(wèn)題
  • 注意事項(xiàng)
    (1)樣品最大規(guī)格尺寸為1×1×0.5cm,當(dāng)樣品尺寸過(guò)大需切割取樣,樣品表面必須平整。
    (2)取樣的時(shí)候避免手和取樣工具接觸到需要測(cè)試的位置,取下樣品后使用真空包裝或其他能隔離外界環(huán)境的包裝, 避免外來(lái)污染影響分析結(jié)果。
    (3)D-SIMS測(cè)試的樣品不受導(dǎo)電性的限制,絕緣的樣品也可以測(cè)試。
    (4)D-SIMS元素分析范圍H-U,檢出限ppb級(jí)別。
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